ICP 기기조사에 관해
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작성일 23-02-07 09:12본문
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ICP 기기조사에 관해
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ICP 기기조사에 관해
4. ICP-Sputtering의 특징
존의 ICP 장치는 유전체 창(석영, 알루미나) 외부에 ICP 안테나를 설치하여 고주파 전력을 간접 전달하는 방식을 사용하였는데 치명적인 단점은 이 창의 내부에 도전성 물질(금속, TiN 등)이 코팅되면 전혀 전력 전달이 되지 않아 플라즈마를 유지할 수 없다는 단점이 있다 따라서 현재 일부 개발된 장비들도 유전체 박막 등 제한적으로만 응용이 시도되고 있다 또한 내부의 유전성 물질을 계속적으로 크리닝해 주어야 하는 유지보수의 문제와 대면적의 유전체 창의 제작과 유지에 있어서 기계적 강도가 문제가 되기 때문에 대형화에의 적용에 많은 어려움을 안고 있다
순서
1. 유도결합 플라즈마의 원리
다.1. 유도결합 플라즈마의 원리 2. 기존 ICP 방법의 문제점 4. ICP-Sputtering의 특징 유도결합플라즈마(ICP)의 원리는 주로 석영 등의 유전체 반응기 외부에 코일을 감아 전기장을 변화시키면 코일의 내부에 유도자장이 발생하게 되고 그에 따른 2차 유도전류가 반응기 내부에 형성되는 것을 이용하여 발생시키는 고밀도 플라즈마이다.
설명
2. 기존 ICP 방법의 문제점(問題點)
유도결합플라즈마(ICP)의 원리는 주로 석영 등의 유전체 反應기 외부에 코일을 감아 전기장을 변화시키면 코일의 내부에 유도자장이 발생하게 되고 그에 따른 2차 유도전류가 反應기 내부에 형성되는 것을 이용하여 발생시키는 고밀도 플라즈마이다.